반도체 핵심 공정 EUV 적용 확대 그 영향은?

목차

 

1. EUV란 무엇인가?

2. EUV 최대 기업의 엔지니어 확보 계획

3. 대만의 반도체 엔지니어 확보 계획

 

 

1. EUV란 무엇인가?

EUV(extreme ultaviolet lithography)

반도체 공정에서 EUV는 빼놓을 수 없는 중요한 기술이다. 포토공정에서 극자외선 파장대를 광원으로 사용하는 기술이며, EUV라고 부르며 리소 프레피 기술 또는 이를 활용한 제조공정을 일반적으로 이야기한다.

 

반도체 칩 하나를 만들기 위해서는 Wafer라는 실리콘 기반의 원판을 감광물질로 코팅하며, 포토공정 설비를 거친다. 이 포토 설비 안에서 웨이퍼에 회로 패턴을 새겨 넣기 위헤서 레이저 광원을 투사하는데, 이 과정을 노광 공정이라 고한다.

이렇게 해서 하나의 반도체 칩에는 눈에는 보이지 않을 정도로 세밀하고 정밀한 회로가 만들어지는데, 이 노광 공정에서 이용하는 것이다. EUV의 극자외선 파장의 광원을 이용하는 것이다.

 

집적 정밀도가 높아질수록 더욱더 세밀하고 극도로 미세한 회로를 새겨 넣는 기술이 필요한데, 이 것을 가능하게 하는 것이 초정밀도 EUV 공정인 것이다.

 

 

2. EUV 최대 기업의 엔지니어 확보 계획

 

국내 반도체 제조업체인 삼성전자와 SK하이닉스에 초정밀 EUV 장비를 ASML에서 독점 공급하고 있다. ASML은 전세계적으로 노광 장비 점유율 1위 업체이며, 국내 엔지니어들도 대거 추가 확보하고 있다. 왜냐하면 반도체 공정에 EUV 공정적용을 확대할 예상되기 때문이다.

 

업계에 따르면 올해 상반기에 ASML코리아에서 채용한 150여명의 인원 중 120명이 엔지니어이며, ASML의 전체 임직원이 1300명 수준인것에 비하면, 10% 정도의 과감한 인력 채용이라고 볼 수 있다.

 

이렇게 공격적인 채용을 하는 이유는 삼성전자와 SK하이닉스가 반도체 제조 공정에서 EUV 장비를 확대 적용할 예정이기 때문이다. 삼성전에의 14나노미터 D램의 EUV 적용 레이러를 기존 1개에서 5개까지 확대하는 계획이며 ASML 관계자에 따르면 EUV 레이어를 1개 추가할 때마다 EUV 장비가 최대 2대 까지 필요하다고 한다. 하여 늘어나는 수요에 대비하여 ASML에서 반도체 엔지니어 확보를 공격적으로 시작한 것이다.

 

ASML 노광장비 출처 : ASML

3. 대만의 반도체 엔지니어 확보 계획

 

세계 최대 점유율의 파운드리 업체인 대만의 TSMC은 그 규모에 맞게, 가장 많은 EUV 장비를 보유하고 있다.  대만에서도 ASML 장비를 사용하고 있으며, 대만의 외신에 따르면 대만 내 ASML 채용은 올해 600여명 이상을 확보할 것으로 예상된다. 이렇게 되면 대만의 ASML 인력은 3,400여명이 될 전망이다.